8月6日消息,在近日的財報電話會議上,Intel CEO宣布已成功接收全球第二臺價值3.83億美元的High NA EUV(極紫外光刻機)。 High NA EUV光刻機是目前世界上最先進的芯片制造設備之一,其分辨率達到8納米,能夠顯著提升芯片的晶體管密度和性能,是實現(xiàn)2nm以下先進制程大規(guī)模量產的必備武器。帕特·基辛格表示,第二臺High NA設備即將進入Intel位于美國俄勒岡州的晶圓廠,預計將支持公司新一代更強大的計算機芯片的生產。 此前,Intel已于去年12月接收了全球首臺High NA EUV光刻機,并在俄勒岡州晶圓廠完成了組裝。此次第二臺設備的引入,將進一步提升Intel在高端芯片制造領域的競爭力,有望幫助公司在2025年實現(xiàn)對臺積電等競爭對手的超越。High NA EUV光刻機的引入,是Inte