《御天降魔傳》曝場景概念圖 最新研發(fā)進度公布

游戲場景設(shè)計圖之一，可以看出單個場景的可探索區(qū)域非常之大

作為國產(chǎn)單機小團體敢于創(chuàng)新，銳意突破的代表，《御天降魔傳》在各個方面大膽采用國內(nèi)乃至國外先進技術(shù)的勇氣值得鼓舞，僅就此次放出的美術(shù)資源來說，制作人表示，在御天降魔傳正式版的開發(fā)中，人物及場景模型將會采用全次世代流程，模型面數(shù)相較于普通3D模型顯著增加，制作方法上采用以高模為基礎(chǔ)，通過將信息烘焙到低模上，使低模體現(xiàn)出和高模一樣的質(zhì)感、凹凸、光影、變化的方法，并采用各種擴展shader來創(chuàng)造特殊效果如發(fā)光、半透明、流動性、反射等等，這種技術(shù)的應(yīng)用能夠反映出物體更精細的凹凸，紋理和變化。使游戲畫面在U3D引擎的現(xiàn)有基礎(chǔ)上提升幾個檔次，屆時，玩家會享受到3D CG電影級別的畫面體驗。